中国购光刻机,困难重重!

ASML在光刻机领域几乎是巨无霸的存在,而他们对于与中国企业合作也是非常欢迎,无奈一些关键细节上被美国卡死。

中国需要光刻机,尤其是支持先进制程的高端光刻机,特别是 EUV (极紫外光源)光刻机,不过ASML对这个机器是不放行的,主要是美国强制要求。

EUV光刻机是光刻机在发展过程中的第五代产品,由于采用了极紫外线,它的最小工业节点到了 22nm-7nm,可以说是世界上最先进的光刻机设备——而这种设备,只有ASML能造出来。

2018年4月,中芯国际向ASML订购了一台 EUV 光刻机,价值1.2亿美元(约合人民币8亿元),预计2019年年初交货。后来此事被报道后,ASML回应称,对包括中国客户在内的全球客户都一视同仁,且向中国出售EUV光刻机并没有违反《瓦森纳协定》。当时,荷兰政府的确向 ASML 发放了出口许可证。

不过,最终这个交易也没有形成,根据知情人士的说法,美国立即盯上了这笔交易——接下来的几个月里,美方官员至少四次与荷兰官员开会,讨论可否直接封杀这笔交易。

此后,关于 EUV 光刻机向中国出口,ASML 的官方说法一直是:公司仍在等待新许可证申请的批准。

在这之前,ASML CFO Roger Dassen在财报会议的视频采访中谈到了与中芯国际等中国客户的业务情况,其表示一些情况下,出口光刻机是不需要许可证的。

Roger Dassen指出,ASML了解美国当局目前的规章制度及其解释,当然也知道这些与特定的中国客户密切相关,但如果广泛的来理解其规章制度对ASML的总体含义(对于特定的中国客户),则意味着ASML将能够从荷兰向这些中国客户提供DUV光刻系统,且无需出口许可证。

美国仅仅是限制了美国不能给中国出口芯片、光刻机等,但并没有限制其他国家对中国进口,荷兰并不在美国的禁令范围内。

目前的光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV光刻机,分为干分式与液浸式两种。其中,液浸式于ASML手中诞生,其波长虽然有193nm,但等效为134nm,经过多重曝光后,液浸式光刻机也能够达到7nm工艺。但是,每多一次曝光都会使得制造成本大大提升,而且良品率也难以控制。

EUV光刻机采用13.5nm波长的光源,是突破10nm芯片制程节点必不可少的工具。也就是说,就算DUV(深紫外线)光刻机能从尼康、佳能那里找到替代,但如果没有ASML的EUV光刻机,芯片巨头台积电、三星、Intel的5nm产线就无法投产。

中国购光刻机,困难重重!插图

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